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• g线光刻胶：揭秘其在半导体领域的多重应用场景
  g线光刻胶，作为半导体制造中不可或缺的材料之一，主要用于28nm及以下工艺节点的光刻工艺。它具有高分辨率、低线宽、低缺陷率等特点，能够满足先进制程对光刻胶性能的严格要求。
  2026-07-03